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微波等離子體化學氣相沉積MPCVD

鉆石培育技術已經(jīng)越來越熟悉的進入人們的視野,MPCVD設備的研發(fā)也是提升到了新階段,那么MPCVD設備是什么呢?
        MPCVD中文名稱叫微波等離子體化學氣相沉積,MPCVD設備作為優(yōu)異的鉆石培育設備,其工作原理為通過微波源產(chǎn)生微波,在微波場的作用下,反應氣體被激發(fā)為等離子體狀態(tài)。等離子體是部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產(chǎn)生的正負離子組成的離子化氣體狀物質。等離子體呈球狀形成于金剛石襯底上,利用等離子體的高溫讓襯底可以加熱到一定的溫度。用5KW 微波功率的MPCVD設備,可以以微米級每小時的速率沉積工具級金剛石膜、熱沉級金剛石膜、光學級金剛石膜等。

        MPCVD設備能沉積高純度的金剛石膜,其沉積速率也可以通過加大微波功率來提高。裝置設計人員將微波頻率從2.45GHz降低到915MHz。如果使用915MHz頻率的微波MPCVD設備裝置,就可以使微波功率提高很多,而微波功率的加大則能大幅度地提高金剛石膜的沉積速率,從而降低生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。一般2.45GHz頻率的MPCVD設備,它的微波功率一般不超過8KW,微波頻率的降低就可以使駐波腔截面積加大,使得金剛石膜的沉積面積加大,而沉積金剛石膜的直徑也從1.5KW微波功率的50mm金剛石膜上升到75KW微波功率的250mm金剛石膜。